zjeeraar schreef op 23 oktober 2024 12:04:
[...]
Hoewel Chinese bedrijven als SMEE zich inspannen om hun eigen lithografietechnologie te ontwikkelen, zijn ze nog niet in staat om EUV-machines te maken.
De beste technologie van SMEE kan momenteel slechts 90 nanometer aan, een niveau dat ASML al twintig jaar geleden bereikte. Dit houdt China voorlopig vast in een achterstand van 15 tot 20 jaar.....
Helaas worden die technische mogelijkheden die ASML kan bieden met AI aan chipontwikkelaars als Nvidia en producenten als TSMC geheel niet in uitdrukking gebracht in de huidige (schrikkel)koers.....